Laitteisto

Samsung siirtää 1,4 nanometrin valmistuksen vuoteen 2029 asti teknisten haasteiden vuoksi

Samsungin tavoite tuottaa 1,4 nanometrin siruja on siirtynyt kahdella vuodella. High-NA EUV -litografia vaatii vielä teknisiä parannuksia [1].

Samsung on siirtänyt 1,4 nanometrin prosessin valmistusajankohdan vuoteen 2029 [1]. Aikaisempi tavoite oli saavuttaa kyseinen taso vuonna 2027 [1].

High-NA EUV -litografia ei ole vielä valmis massatuotantoon [1]. Teknologia vaatii edelleen merkittäviä teknisiä parannuksia [1].

Nykyinen huipputason sirujen valmistus keskittyy 2 nanometrin prosessiin [1]. TSMC valmistaa Applelle A20 Pro -prosessin iPhone 18 Pro -malleihin [1].

Samsung on jo käyttänyt uutta prosessia Exynos 2600 -sirussa, joka löytyy Galaxy Z Flip8 -puhelimesta [1].

Samsungin teknologiajohtaja ChangMin Park totesi, että High-NA EUV on välttämätön 10 Å eli 1 nanometrin prosessin ja sen alapuolella [1].

Laitteistokehityksessä on käynnissä yhteistyö useiden kumppaneiden kanssa [1]. Tavoitteena on ratkaista nykyiset valmistustekniset haasteet [1].

Toimituksen huomautus: tätä tietoa ei saatu vahvistettua ensisijaislähteestä. Se on raportoitu sellaisena kuin Xataka (es) sen kertoo.